韩联社今天报道，韩国一名SK海力士公司的前员工，因向中国企业泄漏有关半导体制造技术的资讯，被判处18个月有期徒刑。

韩联社表示，首尔高等法院对这起上诉案维持原判。

被告曾在SK海力士驻中国办事处工作，法官认定，他从海力士内部伺服器下载资料，将资料拍摄或列印下来，放在求职履历中，交给中国某家公司；那是海力士用于智慧手机相机、笔记型电脑的CMOS影像感测器的相关机密资料。

法院并未公开中国公司名称。报道指出，被告已承认所有指控，SK海力士也追回他所带走的绝大部分资讯。

首尔高等法院未立即回复路透社的置评要求。