安东·希洛夫（Anton Shilov）星期二，2023年9月26日，美国东部时间上午6:51

根据《南中国晨报》（SCMP）的说法，中国计划通过利用粒子加速器来使用创新的方法来制造加工机,

从而将自己定位为高级芯片制造业的全球领导者。 SCMP表示，该方法旨在逃避传统的光刻机器限制和

美国对EUV技术的制裁，从而有可能重塑半导体行业的格局。

由Tsinghua University领导的中国研究团队正在使用粒子加速器开发独特的激光源。 他们的目标是

避开在微芯片生产中至关重要的传统光刻机器的限制。 所提出的粒子加速器将大约是两个篮球场的大

小，在100-150米之间，并将作为芯片制造的高质量光源。

来自斯坦福大学的赵吴教授推出了基础技术，称为稳态微键量（SSMB）。 SSMB捕获加速过程中带电颗

粒发出的能量，将其转化为连续的，纯净的光源。 与普遍的ASML EUV方法相比，SSMB具有卓越的功率

和效率，可能会降低芯片生产成本。

团队成员Pan Zhilong在2022年1月的一次学术研讨会上的演讲中说：“ SSMB-EUV光源在THU设计，

设计的EUV功率高于1kW，并且一些关键技术已经准备就绪。”

SSMB
这个雄心勃勃的项目与ASML等公司的策略形成鲜明对比，ASML的策略着重于将芯片制造机微型化。 取

而代之的是，中国的愿景涉及创建一个巨大的工厂，该工厂设有几台光刻机器，所有工厂都以一个促

进剂为中心。 该设计旨在实现竞争性制造工艺（例如2NM及以后），该过程将用于制造高性能芯片,

而无需使用传统的Extremulviolet（EUV）光刻扫描仪。

Tsinghua University的项目负责人Tang Chuanxiang说：“作为一种全新的光源，已经实施了该技

术的实验验证。但是，有必要在EUV频段中构建SSMB光源研究设备。”然后，我们可以（使用该设备）培养科学和工业用户，并实施SSMB技术。”

根据该报告，Tsinghua大学的团队在该领域取得了长足的进步。 该报告称，他们已经成功地试用了该

技术，现在正在为该项目的建设选择地点。 他们的成就可以为中国绕过潜在的未来制裁并成为半导体

强国铺平道路。

但是，实现基于SSMB的EUV光刻机器的旅程仍然漫长而挑战。 Tang Chuanxiang教授负责该项目，并

强调需要在行业之间进行连续创新和协作以开发功能光刻系统。

唐说：“在我们独立开发EUV光刻机器之前，还有很长的路要走，但是基于SSMB的EUV光源为我们提供

了批准技术的替代方案。” “它需要基于SSMB EUV光源并与上游和下游行业的合作来建立可用的光刻

系统的连续技术创新。”