由于芯片对高科技发展的关键性，中国多家科技公司都在研发芯片。中国芯片龙头企业中芯国际（00981.HK）的联合CEO梁孟松今年8月承认：制作工艺接近7纳米芯片，但与国际先进技术相比仍有差距。梁孟松试图在没有EUV光刻机的条件下，做出7纳米芯片。

在芯片制造方面，中国目前最先进的是中芯国际的14纳米工艺。三星和台积电（TSMC）已实现5纳米量产，差距在三代左右。梁孟松是使中芯国际实现14纳米芯片的关键人物。因被美国制裁，中芯国际无法从荷兰的阿斯麦（ASML Holding NV）购得EUV光刻机。EUV光刻机又称极紫外（Extreme Ultra-violet）光刻机，该设备把硅晶圆加工为晶体管用于芯片制造。三星和台积电都使用阿斯麦的EUV光刻机。据估计，中国公司自