中国芯片迈出一大步，蚀刻机已达先进水平，光刻机迎头快跑

还记得在2004年当时已经60岁的尹志尧离开硅谷从事了二十多年的半导体行业，带队回国创业。于是乎中微很快开发出第一台国产的生产半导体芯片的设备，它便是等离子体刻蚀机。或许大家还不知道，其实在全球最先进的可量产的7纳米芯片工艺上，中微半导体是全球五大刻蚀机供应商之一，并已进军5nm领域。
 

按照当前芯片发展进度，台积电已经开始打造5nm生产线，而在这条生产线上台积电将搭载5nm等离子体蚀刻机便是来自于深圳中微半导体。目前该技术已经得到了台积电的验证。
 

在芯片制造领域，光刻机和蚀刻机一直是芯片制造领域的关键。在业界有个形象的比喻，光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，如果要想制造高端的芯片，这两个东西都必须顶尖。
 

而在光刻机方面，与世界最先进的7nm制程都相去甚远。不管三星、英特尔还是台积电在芯片制程工艺方面如何去竞争，但ASML终究是背后最大霸主，最大赢家，因为他们谁都离不开他的EUV光刻机。而国产光刻机还在路上，目前我国已经能够使用365纳米波长的光生产22纳米工艺的芯片，这在全世界尚无先例，它也被称为世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备。这也意味着国产光刻机可以使用低成本光源，实现了更高分辨力的光刻。
 

从光刻机还是蚀刻机，至少可以看得出来国产芯片已经取得了非常大的成就。中微半导体7nm蚀刻机的量产，直接迈入世界一流行列，5nm蚀刻机也在实验阶段。而光刻机方面已迈入22纳米。
 

我们也相信如果光刻机与蚀刻机纷纷取得进展，也将成为如果挑战台积电、三星、英特尔背后大霸主的有力筹码。至少“科技自立”下，实现芯片研发国产化、加工制造本土化。那个时候，将会造福诸如华为、小米、OV等国产手机。