个人认为，利用现有ASML的DUV甚至可以勉强做出5纳米制程，如果不在乎良率。纯国产类似性能DUV估计也近期可以量产，勉强做出7纳米。将来可以在光源上稍改进，提高良率。甚至可以试试八重曝光，冲击一下5纳米。填补在EUV研制成功前的空白。