光刻机只以光源波长为划分，从最开始的365nm, 到大约20年前的248成为主流，然后约15年前193nm,两年后的193wet,euv发展了很长，6,7年前才进入量产。

国内现在248光源稳定性还未解决，na与国外主流相比有较大差距，双工台（这是能够量化提高产能的关键技术）还处于实验阶段。

248什么水平？单次曝光分辨率90nm