随意生活

因为美国西方封锁技术切断供应链，过去“造不如买”的平坦路终于走到头了，昔日“借鸡下蛋”的黄粱梦也做到头了。人家不给你，只得自己干了。现在中国商用光刻机的水平只在90纳米制程的级别，据说能生产28纳米芯片的光刻机将于年底问世，此机器何时大批量投入工业生产，让我们拭目以待。

注意，这里的关键词是“商用”，实验室里的那些个样机不作数，应为它们相距工业化商业化十万八千里远。用体育比赛做比喻，秀实验室样机好比跳高，跳过一次能破个纪录就得，以后再跳不跳得过去无所谓。工业化就像跑马拉松，远距离长时间，一步接一步，每跑一步都很重要，缺一步都无法到达目的地。

由于西方断供，中国欲打造自主品牌的商用光刻机，必须整合数以万计十万计的国产零部件。打造DUV和EUV也好，创新碳基芯片与光子芯片也罢，都需要有一台可靠的能将微米级“线路图”打印到介质上去的高精度机器。这一点，任何企图弯道超车者都无法躲过。

从实验室的样机到工业化的产品，得完成“鲤鱼跳龙门”般的两个飞跃：（1）高良率，（2）高精度的重复性。这两点是工业化的必要条件，因为企业生产需要在短时期内生产大量合格而不亏本的芯片，如每月至少1千万片芯片。要完成这两个飞跃，就必须有精密制造能力与复杂系统集成能力的支持。而这两个能力，恰恰是目前中国半导体业的短板。

所以，中国建造商用光刻机的关键，除了有信心有愿望有毅力有资金，最关键的是，要有足够强的精密制造与复杂系统集成的能力。不过此等能力的培养，需要一个相当长的时间，急也没有用，拔苗助长很可能适得其反。一旦中国半导体业补齐了这两个短板，打造任何类型的商用光刻机，也就水到渠成了。